第21回研究集会in京都

「機能膜合成・デバイス形成の物理メカニズム探索」

2024年11月28日(木) ~ 11月29日(金)

龍谷大学 成就館

研究集会の概要

 本研究会の目的は、薄膜半導体・絶縁体・電極材料・それらの物理・エンジニアリングについて、分野間の垣根をとりはらい広く議論する場を創生することにあります。第一線の研究者・技術者間の情報交換と議論の場を設けることによって、幅広い知識と理解を共有することができると期待しています。

 身の回りに存在する電子機器はもはや我々の生活に欠かせない必需品です。それらの電子機器は、電子デバイスの集合体であり、電子デバイスは合成した薄膜を積層して形成されています。すなわち、所望の性能を有する電子機器を設計するには、薄膜の合成方法やデバイスの形成技術に関して、その基礎原理を理解すること、物理メカニズムを解明することが重要となります。そこで第21回薄膜材料デバイス研究会では、機能膜合成や薄膜デバイス形成に関する各プロセス技術の開発をされている研究者で、特にそれらの物理メカニズムの解明などに重みを置いて研究に取り組まれている研究者にご講演していただくこととし、タイトルを「機能膜合成・デバイス形成の物理メカニズム探索」としました。

 一般講演については、本テーマに限らず薄膜材料・プロセス・デバイスに関するすべての話題を対象としております。積極的な論文投稿・ご参加をお待ちしております (ポスター講演も募集いたします)。

重要なお知らせ

参加早期申込締切を11/7に延長しました。まだの方はお急ぎください。

暫定版プログラムを公開しました。

オンライン配信は口頭講演のみで、ポスターセッションやランプセッションは配信されません。また、講演は原則として現地で行って頂きます。

昨年とは会場の場所が変わりますので、ご注意ください。

近年、京都市内のホテルがかなり先まで予約しづらくなっております。参加を考えておられる方で宿泊が必要な方は、プログラム確定を待たず早めにホテルを確保されることをお勧めいたします。

研究集会ポスター

最新情報を掲載したポスターは こちらです。
ご自由に掲示あるいは配布して頂いて結構です。内容は随時アップデートします。

協賛

※協賛団体ロゴおよびリンクは、確定次第順次掲載しております。

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※申し込み期限はこちらでご確認下さい。

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